Антистатичний WIPER WIPER
Антистатична тканина, що не містить пилу, широко використовується в сценах, чутливих до статичної електроенергії та має суворі вимоги до чистоти завдяки чудовій здатності електростатичного розсіювання та високій чистоті. Основні використання включають:
1. Точна електроніка та напівпровідникові виробництва
Виробництво напівпровідникових мікросхем: використовується для витирання та очищення поверхні вафель для видалення крихітних частинок, органічних залишків та іонів металів, забезпечення надвисокої чистоти до таких процесів, як фотолітографія та травлення; і запобігання електростатичному розряду (ОУР) збивати мікросхеми під час упаковки.
Очищення друкованої ланцюга (PCB) Очищення: Зніміть залишковий флюс, шлак олова та пил після зварювання, щоб уникнути короткого замикання або електричної несправності.
Обробка панелей дисплея: Очистіть поверхню оптичних компонентів, таких як РК -дисплей, електропровідний скло, сенсорний екран тощо, щоб запобігти статичній електриці від адсорбінгового пилу та спричиняючи дефекти дисплея.
Інструмент приводу на жорсткому диску/точний інструмент: Витріть чутливі компоненти та композитні матеріали, щоб забезпечити стабільність роботи обладнання.
2. Біофармацевтичні препарати та медичні пристрої
Обслуговування обладнання для чистого приміщення: Витріть поверхню робочих навантажень та інструментів у чистому середовищі класу 100 до класу 1000 класу, щоб запобігти мікробному та твердженню частинок.
Дезінфекція медичних пристроїв: Чисті хірургічні інструменти та обладнання для випробувань із процесом стерилізації для задоволення асептичних вимог.
3. Оптика та аерокосмічні поля
Оптична об'єктива/очищення об'єктива: акуратно видаліть масло та відбитки пальців, щоб уникнути залишків волокна, що дряпають точну оптичну поверхню.
Аерокосмічні компоненти: чисті ключові компоненти, такі як двигуни літака та навігаційне обладнання для зменшення впливу пилу на продуктивність.
4. Лабораторії та виробничі середовища високого класу
Наукові дослідницькі експерименти: Витріть біологічне експериментальне обладнання та хімічні контейнери, щоб забезпечити точність експериментальних результатів.
Загальне використання в без пилових майстерень: підходить для щоденного очищення сцен, таких як напівпровідникові складальні лінії, медичні лабораторії та композитні виробничі лінії матеріалів.
Основна підтримка технологій
Електростатичний захист: поверхневий опір стабільний при 10⁶ - 10⁹ω, швидко розсіюючи статичну електроенергію та захищаючи чутливі до ESD компоненти.
Ультра-висока чистота: Лазерна/ультразвукова ущільнювальна технологія зменшує проливання волокна, а також технологія подвійного плетіння та ультраустрічне очищення води забезпечують низький вивільнення забруднюючих речовин.
Примітка. Додаток повинен відповідати рівню чистоти навколишнього середовища (наприклад, класу 10 до класу 1000) та вибрати відповідний процес обряду (холодне різання, лазер або ультразвуковий) для задоволення потреб різних сценаріїв.